铝蚀刻剂A

  • 品牌:TRANSENE
  • 纯度:
  • 等级:
  • 编号:TSA0527A-1GAL
  • 单价:¥3800.00
  • 货期: 现货
  • 仓库:天津
  • 规格: 1加仑
  • 数量:
    -
    +
    库存5件

说明

 

Transene公司铝蚀刻剂是提供用以蚀刻硅部件上和集成电路中金属铝的稳定无毒的成方制剂。可以刻制铝触点和连接线。这些铝蚀刻剂具有能克服铝蚀刻过程中出现的许多问题的独特性能。

铝金属化和使用光印刷术的蚀刻工艺是半导体和微型电子技术的基础。Transene公司的铝蚀刻剂与市售光刻胶(KTFRAZHuntWaycoat等)具有良好匹配性,可以蚀刻出高分辨率图案。可以得到宽度为1密耳的金属线,线间距可小于5微米。Transene公司的铝蚀刻剂分辨率高,因为它不剥脱光刻胶,这样蚀刻线边下蚀现象就最少。而且该蚀刻剂不浸蚀硅、二氧化硅、氮化硅或镍铬电阻膜。

供应两种铝蚀刻剂用于微型电子器件。其中A型铝蚀刻剂建议用于硅部件,D型建议用于砷化镓和磷化镓部件以避免蚀刻剂对金属互化物的浸蚀作用。也建议用于蚀刻镍铬薄膜电阻上的金属铝。

 

Transene公司铝蚀刻剂性能

 

 

A

D

外观

液体

淡黄色

PH

1.0

1.0

沸点

> 100

> 150

冰点

< 0

< 0

25℃时比重

1.45

1.50

闪点

不可燃

不可燃

溶解度

溶于水

溶于水

蚀刻速率

 

 

25 °C

10 Å/

40 Å/

40 °C

80 Å/

125 Å/

50 °C

100 Å/

200 Å/

65 °C

240 Å/

----------

75 °C

550 Å/

----------

 

注:蚀刻速率因铝纯度不同而微有区别。

 

 

 

应用

用真空沉积法在硅片上镀一层厚25000 Å的铝膜,涂以光刻胶,上面覆盖上摄影片,在紫外光源下暴光。光刻胶显示图案,其中作为连接线的铝被保护,而不受保护部分的铝则被铝蚀刻剂浸蚀除掉。随后用水冲洗。

蚀刻时间根据蚀刻温度和铝膜厚度而定。在蚀刻厚铝膜时,蚀刻速率要高,此时要在较高温度下进行蚀刻。与此相反,对于薄铝膜则需要蚀刻速率慢,蚀刻温度低。在某一具体温度下,蚀刻时间可根据下列公式计算:

    蚀刻时间(分钟)=           膜厚(Å     

                         蚀刻时间(Å/秒)* 60

 Transene Co INC公司是在1965年由Dr. Benjamin P. Hecht.博士所创建的,其公司宗旨在于为电子和航空产品研制和开发新型材料。经营范围包括介电材料、半导体、玻璃、电阻材料、粘合剂、电泳电极涂料、微波材料、保护涂料、光电导体、属配方和化学蚀刻剂等。


  Transene品牌的电子化学品已经被国际知名的多家半导体厂家认可。

  Transene产品广泛应用于半导体微型电子产品、薄膜和厚膜混合体、微型电子线路、电子构件和其他电子产品等。

  近年来中国在电子领域的研究和生产有了突飞猛进的发展,电子化学品是电子工业的配套材料之一,电子产品的不断更新换代离不开电子化学品的支持。


  为了满足国内商家对电子化学品的需求,易化360将Transene 电子化学品引入中国。易化360(www.echem360.com)作为Transene在中国的总代理商,全面负责Transene产品在中国的销售及客户服务工作。