铜蚀刻剂APS-100

  • 品牌:TRANSENE
  • 纯度:
  • 等级:
  • 编号:TSA0542-1GAL
  • 单价:¥1260.00
  • 货期: 4-6周
  • 仓库:天津
  • 规格: 1加仑
  • 数量:
    -
    +
    库存1件

特点

 

·可立即使用

·与广大光刻胶有良好匹配性

·蚀刻铜时边缘严整

·工艺简单

 

说明

Transene印刷电路铜蚀刻剂(CE-100CE-200)是配方氯化铁溶液,其中加有专利湿性抗泡沫剂和螯合剂以增强蚀刻性能。氯化铁溶液广泛用于印刷电路中铜、铜合金以及KOVAR的蚀刻过程。这种蚀刻剂与通常使用的光刻胶(KPRDYNACHEMAZRISTONSCREEN RESISTS等)具有良好匹配性。但当对焊料板光刻胶不可使用蚀刻剂。

APS-100铜蚀刻剂用于薄膜电路上细线条的控制性蚀刻。此外它与镍和锡-铅焊料具有良好匹配性。

 

PC铜蚀刻剂

 

蚀刻剂类型

CE-100

CE-200

APS-100

浸泡或喷涂

喷涂

浸泡喷涂

操作温度

40-60

40-60

30-40

蚀刻速率(40℃)

1密耳/

0.5密耳/

80Å/

蚀刻1盎司需要的时间

1.5

3

7.5

铜蚀刻能力

19盎司铜/加仑

14盎司铜/加仑

10盎司铜/加仑

 

 

 

 

应用

 

铜浸泡型蚀刻剂(CE-100)供应后随即可用,建议操作温度是40-60℃。许多用户当蚀刻液消耗50%时(即蚀刻8-10盎司铜/加仑时)便弃置旧液换用新液。

当蚀刻掉8盎司铜时,蚀刻速率可能要变慢。这时往每加仑蚀刻剂中加入500mlHCL37%)可以有效加快蚀刻速率,从而能允许蚀刻液消耗到70%(蚀刻14盎司铜/加仑)。振荡蚀刻溶液可以增快蚀刻速度,并能改进蚀刻精细度。

铜喷涂蚀刻剂(CE-200)使用方便。建议操作温度为40-60℃,它用于喷涂蚀刻技术,在控制速率下可进行高精密度蚀刻。当蚀刻速率变低而不再符合要求时(即7-8盎司铜/加仑),可弃置旧液换用新鲜蚀刻液。

在用CE-100CE-200蚀刻完毕后,喷水冲洗工件,而后以5-10%HCL(或草酸)冲洗,最后再用水喷洗。

 

蚀刻液罐和设备――废蚀刻液的处理

 

采用PVC、玻璃或环氧涂层罐。加热器可用石英、碳或钛(镍或钴钢也可以使用)。废CE-100/200液用碳酸钙中和并用水稀释之。建议不要倒进下水道内。

 

 Transene Co INC公司是在1965年由Dr. Benjamin P. Hecht.博士所创建的,其公司宗旨在于为电子和航空产品研制和开发新型材料。经营范围包括介电材料、半导体、玻璃、电阻材料、粘合剂、电泳电极涂料、微波材料、保护涂料、光电导体、属配方和化学蚀刻剂等。


  Transene品牌的电子化学品已经被国际知名的多家半导体厂家认可。

  Transene产品广泛应用于半导体微型电子产品、薄膜和厚膜混合体、微型电子线路、电子构件和其他电子产品等。

  近年来中国在电子领域的研究和生产有了突飞猛进的发展,电子化学品是电子工业的配套材料之一,电子产品的不断更新换代离不开电子化学品的支持。


  为了满足国内商家对电子化学品的需求,易化360将Transene 电子化学品引入中国。易化360(www.echem360.com)作为Transene在中国的总代理商,全面负责Transene产品在中国的销售及客户服务工作。